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晶圓單片式清洗機（jī）
單片式清（qīng）洗機是由幾個清洗腔體組成，再通過機械手將每一片晶圓送至各個腔體中進行單獨的噴淋（lín）式清洗，清（qīng）洗效果較好，避免了交叉汙染和前批次汙染（rǎn）後批次，具（jù）有極高的（de）工藝環境控製能力與微粒去除能力，有（yǒu）效解決晶圓之間交叉汙（wū）染的問題。 可定製2/4/6/8/12/16腔室，單腔室（shì）處（chù）理速度可達到35片（piàn）/小時，根（gēn）據（jù）客（kè）戶需求（qiú）定製適（shì）用於8寸/12寸矽片清洗，內... MORE +
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全（quán）自（zì）動槽式清洗機
全自動槽式清洗機廣泛應（yīng）用（yòng）於集（jí）成電路領域、先（xiān）進封裝領域裏的清洗、刻蝕後、光刻膠去除（chú）等工藝。與傳（chuán）統（tǒng）的清洗設備相比自動化程度更高，可用於4寸、6寸、8寸、12寸矽片清洗。還可以選配（pèi）兆聲波（bō）係統（tǒng）、管（guǎn）路防靜電（diàn）等配置。設備可以提供在異常情況下對矽片的獨特保護（SPS係統）。可提（tí）供多個槽（cáo）體或單片進行化學藥液或（huò）純水，結合噴淋、溢（yì）流、... MORE +
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去膠清洗機
設備名稱：槽式濕法去膠機
整機尺寸：約 5200mm（L）× 1900mm(W)×2200mm(H)；
操作台麵高度：950±50mm；
適用產品：12inch晶圓（兼容（róng）8inch晶圓）；
操作係統：PLC 操作（zuò）係（xì）統；
設備具有12英寸（兼容8英寸）晶圓上的（de）光刻膠去除功能；
適用於12英寸和8英寸（cùn）晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除（chú）工藝，並對晶（jīng）圓（yuán）上的相關金屬... MORE +
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