去膠清洗機
設備名稱:槽式濕法去膠機(jī)
整機尺寸:約 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作台麵高度:950±50mm;
適用產品:12inch晶圓(兼容8inch晶圓);
操作係統:PLC 操作係(xì)統;
設備具有12英寸(兼容8英寸)晶(jīng)圓上的光刻膠去(qù)除功能;
適用於12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝,並對晶圓上的相關金屬線條或焊盤等無損傷,作業(yè)方式為槽(cáo)式模式。
整機尺寸:約 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作台麵高度:950±50mm;
適用產品:12inch晶圓(兼容8inch晶圓);
操作係統:PLC 操作係(xì)統;
設備具有12英寸(兼容8英寸)晶(jīng)圓上的光刻膠去(qù)除功能;
適用於12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負性光刻膠去除工藝,並對晶圓上的相關金屬線條或焊盤等無損傷,作業(yè)方式為槽(cáo)式模式。
產品特(tè)點(diǎn)
1.配備多套去膠槽體,能夠滿足多種去膠工藝;
2.具(jù)備去膠、水洗及幹燥功能;
3.具(jù)備連續自動作(zuò)業能力,適合批量化(huà)生產;
4.藥水槽具備藥水(shuǐ)循環過濾功能;
5.去膠工藝後對晶圓的基材、金屬導線(xiàn)、焊盤等所有內(nèi)部結構(gòu)無(wú)損傷
6.破片率 連續生產1萬(wàn)片,無機台原因造(zào)成(chéng)的破片及(jí)劃傷
2.具(jù)備去膠、水洗及幹燥功能;
3.具(jù)備連續自動作(zuò)業能力,適合批量化(huà)生產;
4.藥水槽具備藥水(shuǐ)循環過濾功能;
5.去膠工藝後對晶圓的基材、金屬導線(xiàn)、焊盤等所有內(nèi)部結構(gòu)無(wú)損傷
6.破片率 連續生產1萬(wàn)片,無機台原因造(zào)成(chéng)的破片及(jí)劃傷
應用領域
適用於12英寸和(hé)8英寸(cùn)晶圓上的正性光刻膠、負性光(guāng)刻膠去除工藝
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